模拟硅基片上的 UHV/CVD 及硅生长

Brianne Costa | 2015年 5月 25日

化学气相沉积 (CVD) 能够生产出兼具高质量、高纯度及高强度等优点的材料,因此在半导体行业非常受欢迎。超高真空化学气相沉积 (UHV/CVD) 涉及相当复杂的设备和极高的温度。为了能在提高效率的同时更好地控制成本,工程师们可以对这一复杂工艺进行模拟。本篇博客中,我们将以硅基片的生长为例进行说明。

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Daniel Smith | 2013年 5月 2日

石墨烯可以在高真空下利用热分解制造。为了设计和优化这些高真空系统,工程师可能转向仿真寻求帮助,不过目前还没有多少仿真工具能胜任这一工作。让我们来看一下真空系统如何与石墨烯的生产相关,为什么要模拟它们,以及如何模拟。

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