离子注入机计算器

Application ID: 10011


“离子注入机计算器”App 分析离子注入系统的设计。离子注入在半导体工业中广泛用于将掺杂剂注入到晶片。

在离子注入机内,离子源内产生的离子经电场加速,获得所需的注入能量。通过磁分离方式使离子束弯曲,选择电荷状态合适的离子,从而确保只有特定荷质比的离子才能到达晶片。这一过程中离子束的能量剂量和角度都是关键参数。

通过该 App,用户可以更改晶片的角度以及除气物质的分子量、除气速率和表面温度。还可以调节低温涡轮泵的速度。

可以将数密度、压力、分子通量以及沿离子束线的平均数密度可视化。

案例中展示的此类问题通常可通过以下产品建模:

分子流模块