离子注入机计算器

Application ID: 10011


本例研究离子注入系统的设计,这种系统在半导体行业中广泛用于在晶圆中掺杂。\n\n在离子注入机内,离子源产生的离子经电场加速后,获得所需的注入能量。通过磁分离方式离子束发生偏离,选出电荷状态合适的离子,确保只有特定荷质比的离子才能到达晶圆。这一过程中离子束的能量、剂量和角度都是关键参数。\n\n本例允许用户更改晶圆的角度以及排气物质的分子量、排气速率和表面温度。还可以调整低温泵和涡轮泵的转速。\n\n仿真结果中可以对数密度、压力和分子通量,以及沿离子束轴的平均数密度进行可视化。

案例中展示的此类问题通常可通过以下产品建模:

分子流模块