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表面化学教程

Application ID: 9663


本案例模型显示如何模拟化学气相沉积(CVD)中的表面反应和物质分布。模型中,硅在一个圆片上生长,系统中的总质量和摩尔浓度守恒。最后,得到了沉积的硅的厚度与时间的函数关系。

本模型示例在以下产品中提供:

等离子体模块

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