快速搜索

表面化学教程

Application ID: 9663


本案例模型显示如何模拟化学气相沉积(CVD)中的表面反应和物质分布。模型中,硅在一个圆片上生长,系统中的总质量和摩尔浓度守恒。最后,得到了沉积的硅的厚度与时间的函数关系。

本案例使用的模块如下:

等离子体模块

针对您的实际问题,建模所需的 COMSOL® 产品组合取决于定义该问题的物理场接口。特定的物理场接口可能同时包含于多个产品中(参见技术规格表获取更多详细信息)。在您为一个项目确定最佳的产品组合时,我们建议您首先明确自身的所有需求,然后通过以下几种方式依据需求选取所需的产品:了解各个产品的功能、咨询 COMSOL 销售和技术支持团队,以及使用试用许可证进行软件试用。