案例下载

化学机械抛光 (CMP) 是一种关键的表面平坦化工艺，广泛应用于半导体制造和光学器件加工领域。 本模型耦合分析了 CMP 设备在抛光过程中，保持环内部的流场及研磨颗粒的运动。其中，抛光头的转动使用了冻结转子方法。 扩展阅读

液固混合物（悬浮液）在许多工业领域中都很重要，如石油和天然气精炼、造纸、食品加工、泥浆输送和废水处理。CFD 业界开发了多种不同的建模方法，从离散的基于颗粒的方法到宏观的、半经验两相描述等。 此模型阐明了如何利用 ... 扩展阅读

两相流体界面与固体表面的接触角由接触点的受力平衡决定。电润湿中，通过在导电流体与固体表面之间施加电压，可以改变接触点的受力平衡。 在许多应用中，固体表面由沉积在导电层上的薄电介质组成，这通常称为电介质上的电润湿 ... 扩展阅读

在半导体制造过程中，光刻胶涂覆是一项关键的工艺，需要精确控制光刻胶层的厚度。通常，通过旋涂来减小光刻胶层的厚度，其基本原理是利用离心力将晶圆表面多余的光刻胶甩出，通过调整材料属性和旋转速度等参数 ... 扩展阅读

此研究利用“CFD 模块”中的高马赫数流动 接口对超音速喷射器内的可压缩湍流进行建模。 喷射器是应用广泛的简单机械元件，其应用包括工业制冷、真空生成、气体再循环以及飞机推进系统中的推力增大。 ... 扩展阅读

液滴蒸发在日常生活中无处不在，在许多工业过程中也是必不可少的，例如喷墨打印、表面清洁或涂层，以及相变传热。 在本模型中，固体基板上的水滴蒸发到空气中。我们求解两相流与传热和水蒸气传递的耦合方程 ... 扩展阅读

本模型例证了“旋转机械”接口的使用，通过该接口，可以对搅拌槽、搅拌器和泵等设备中的旋转部件进行建模。 “旋转机械”接口在旋转坐标系中求解纳维-斯托克斯方程，其中未旋转的零件在固定材料坐标系中求解 ... 扩展阅读

后台阶流是研究湍流模型的性能和求解策略的一个很有意思的案例，在这个案例中，流动的横截面积突然增大，导致流动从面积增加点处开始分流。 速度场的空间变化导致壁区域外产生湍流，湍流与平均流动相互作用，影响分流气泡的大小 ... 扩展阅读

烟囱上的风条阻碍了沿烟囱高度方向的均匀分离，这会引起振动并最终导致烟囱底部出现疲劳。本例对安装在工厂建筑物上的带箍条的烟囱进行稳态湍流仿真计算；其中将稳态解的结果用作瞬态湍流仿真的初始条件，以评估箍条对周期性分离的影响。 扩展阅读

碳化硅 (SiC) 外延炉是专为生产和制备 SiC 外延片而设计的核心设备。本示例模型演示基于物理气相传输 (PVT) 法制备 SiC 外延片的过程。通过感应线圈加热 SiC 粉末，当温度达到特定值后，粉末开始升华 ... 扩展阅读