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Chemical vapor deposition (CVD) is a process used to grow thin films on substrates. In this CVD example, ... 扩展阅读
化学气相沉积 (CVD) 是制造微芯片的重要步骤。其中一种常见的应用是低压下硅在晶片上的沉积，由于这个过程受到沉积动力学的限制，需要使用低压反应器获得气态物质的高扩散率，形成均匀的沉积厚度。 ... 扩展阅读
在实际工程中，经常采用铝 (Al) 绝缘体来减轻镁合金 (Mg) 与低碳钢 (MS) 之间的电偶腐蚀。本模型演示了如何使用参数化研究来分析铝绝缘体厚度对电偶腐蚀严重程度的影响。这里使用文献中的实验极化数据实现电极动力学。 扩展阅读
本模型示例基于“电镀”案例库中提供的“沟槽中镀铜”模型。 沿沟槽表面的不均匀沉积导致形成空腔/空隙，由于“变形几何”接口无法处理拓扑变化，因此无法扩展原始模型来模拟空腔形成后的沉积。 此模型在空腔形成后利用“水平集 ... 扩展阅读
本模型使用“非等温反应流”多物理场耦合来模拟甲烷蒸汽重整器，其中充分考虑了多孔介质中化学反应、物质传递、流动和传热等多方面的相互作用。 扩展阅读
此模型举例说明了由于反应物在牺牲阳极上形成电阻膜，石油平台中钢的腐蚀率如何随时间而增大。 模型还包含受保护的钢结构上的二次电流分布电极动力学，定义了同时发生的金属溶解和氧还原（混合电位）。 扩展阅读
此 App 演示如何使用“热力学”特征访问外部热力学和物理属性计算并将二者包含在仿真中。本例介绍如何在“反应工程”接口中轻松修改预定义的平推流反应器类型来建立膜反应器模型。 在高温高压且存在氢气的情况下 ... 扩展阅读
本例模拟混凝土中钢筯的阴极保护。 分析了钢筯表面三种不同的电化学反应。在混凝土域中对电荷和氧传递进行建模，其中电解质电导率和氧扩散率取决于湿度。 研究了不同湿度对腐蚀电流的影响。 扩展阅读
