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该基准模型计算一维液体动压滑动轴承的承载能力，将在这个简单示例中直接求解雷诺方程得出的计算结果与解析式进行了比较。 扩展阅读
化学机械抛光 (CMP) 是一种关键的表面平坦化工艺，广泛应用于半导体制造和光学器件加工领域。 本模型耦合分析了 CMP 设备在抛光过程中，保持环内部的流场及研磨颗粒的运动。其中，抛光头的转动使用了冻结转子方法。 扩展阅读
本例举例说明如何通过施加射频辐射对组织消融进行建模。有关这一现象的更详细描述以及建模过程，请参阅博客文章“生物组织射频消融技术的仿真研究”。 扩展阅读
本教学案例介绍如何模拟由承重结构和隔热层组成的隔热屋顶结构中的耦合热湿传递。隔热材料面向内部，有一个面向外部的防潮层。 承重结构是毛细活性的，而绝缘层是非毛细活性的，这在两种材料之间的接触面上引起较高的相对湿度 ... 扩展阅读
本模型模拟了在 U 型结构表面沉积氧化铝薄膜的 ALD 沉积过程。该工艺采用三甲基铝 (TMA) 和水 (H2O) 作为气态前体，氮气作为吹扫气体。气态反应物依次被引入反应腔室，并在U型结构表面经历一系列吸附和化学反应 ... 扩展阅读
该基准模型计算一维液体动压止推轴承的承载能力，将在这个简单示例中直接求解雷诺方程得出的计算结果与解析式进行了比较。 扩展阅读
本模型演示如何使用内置的形状优化功能来改善板式换热器的性能。通过优化可以缩短入口和出口前方的路径，以增加典型流线的长度，从而实现在驱动压力不变的情况下提高传热速率。 扩展阅读
此模型计算在高度定向分子流中旋转的板表面的粒子通量、数密度和压力。将获得的结果与其他计算分子流的近似技术所得结果进行了比较。 扩展阅读