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本研究设置旨在揭示通道中湍流的特性如何因相邻多孔区域的存在而发生改变。通过仿真,我们观察到固体壁和流体-多孔界面处的非对称速度分布、较高的湍流水平和较大的摩擦系数。在高渗透率的情况下,无需专门使用校准的经验函数 ... 扩展阅读
该基准模型计算一维液体动压滑动轴承的承载能力,将在这个简单示例中直接求解雷诺方程得出的计算结果与解析式进行了比较。 扩展阅读
该基准模型计算一维液体动压止推轴承的承载能力,将在这个简单示例中直接求解雷诺方程得出的计算结果与解析式进行了比较。 扩展阅读
此模型的目的是利用“射线发射”算法在“表面对表面辐射”中引入镜面反射。当使用“射线发射”算法时,用户可以使用不同的参数来提高结果的精度。此模型是同心球体的标准基准测试,同心球体是漫反射发射体和漫反射镜面反射体。 扩展阅读
在半导体制造过程中,光刻胶涂覆是一项关键的工艺,需要精确控制光刻胶层的厚度。通常,通过旋涂来减小光刻胶层的厚度,其基本原理是利用离心力将晶圆表面多余的光刻胶甩出,通过调整材料属性和旋转速度等参数 ... 扩展阅读
此模型的目的是在“参与介质中的辐射”接口中引入半透明表面特征,这是使用 DOM 方法对玻璃板模型进行辐射冷却的另一种建模思路。在这个版本中,在外部边界上定义半透明表面,而不是原始模型中的不透明黑色表面。 扩展阅读
本例演示如何模拟等温条件下均匀壁面的水分输送。我们可以基于这一假设来计算解析解。 均质层在水分平衡中初始化。在仿真开始时,外部和内部的相对湿度已调为较小的值。 该一维模型是 HAMSTAD-WP2 ... 扩展阅读
柴可拉斯基 (Czochralski, CZ) 法是制备单晶硅的最重要方法之一。晶体的形态,尤其是直径,依赖于加热功率、提拉速率和晶体旋转速率的精确调控。 本模型演示了这种晶体生长炉的热分析。系统通过电加热器进行加热 ... 扩展阅读