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化学机械抛光 (CMP) 是一种关键的表面平坦化工艺,广泛应用于半导体制造和光学器件加工领域。 本模型耦合分析了 CMP 设备在抛光过程中,保持环内部的流场及研磨颗粒的运动。其中,抛光头的转动使用了冻结转子方法。 扩展阅读
本教学案例演示如何使用功率谱密度 (PSD) 对结构执行随机振动分析。计算基于模态降阶模型 (ROM)。 扩展阅读
本教学案例演示如何在二维轴对称模式下对管式永磁发电机进行建模。发电机由模块化的静止定子和移动/摆动滑块组成,定子由三相多匝绕组及铁芯组成,滑块由永磁体和铁垫片制成 ... 扩展阅读
本例将一个富含水分的球形物体(如土豆)放置在微波炉的旋转玻璃托盘上,使其与转盘中心保持一定距离。通过波导馈入 1 kW 的 2.45 GHz 微波功率,转盘以每秒 9 度的速度旋转 ... 扩展阅读
本例介绍如何为动态锥形驱动器扬声器建模,这种扬声器常用于中低频。分析在频域中进行,因此可以表示驱动器的线性特性。模型分析包括额定驱动电压下的总电阻抗和轴上声压级随频率变化的情况,驱动器的空间特性通过方向性图描述。 ... 扩展阅读
感应泵用于高温冷却系统,工作原理相当于线性三相感应电机。其明显优势是没有活动零件且泵送液体保留在密封系统中。此模型介绍如何模拟通用液态钠泵。 扩展阅读
此模型介绍如何使用仿真预测搅拌器中幂律流体的幂数,模拟了四叶片斜叶轮平底釜中的流动特性。流动被模拟为层流,冻结转子方法用于求解四分之一带挡板的釜的离散控制方程。将计算得出的幂数与文献中的实验结果进行了比较,二者非常一致。 扩展阅读
此模型计算无约束轴对称圆柱的特征频率和振型。 模型取自 NAFEMS Free Vibration Benchmarks,将特征频率与基准报告中给出的值进行了比较。 扩展阅读
