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此模型演示如何使用“金属加工模块”和“优化模块”根据 TTT（等温转变）数据来校准相变模型的参数。 扩展阅读
本教学案例使用硅太阳能电池的简单一维模型来演示使用“半导体模块”建立和执行半导体仿真的基本步骤。用户定义表达式用于表示光生成率，结果显示太阳能电池的典型 I-V 曲线和 P-V 曲线。 ... 扩展阅读
本模型在频域内计算声学系统的输入阻抗/导纳。该系统表示用于助听器测试的典型测量设置，并包含具有热黏性边界层损耗的域。 在频域中计算的输入导纳通过部分分式拟合 函数进行拟合。随后，建立了一个等效电路模型 ... 扩展阅读
化学机械抛光 (CMP) 是一种关键的表面平坦化工艺，广泛应用于半导体制造和光学器件加工领域。 本模型耦合分析了 CMP 设备在抛光过程中，保持环内部的流场及研磨颗粒的运动。其中，抛光头的转动使用了冻结转子方法。 扩展阅读
用二维轴对称方法可以轻松对大型反射器进行建模。在本模型中，反射器的半径大于 20 个波长，并且反射器受到轴向圆形馈电喇叭天线照射。模拟得到的远场结果显示了高增益窄波束图。 扩展阅读
本例探讨温度变化引起的固有频率变化，其中一个研究分析两端固定的双钳梁，而另一个研究分析只有一端固定的悬臂梁。 研究了以下效应： 应力刚化 尺寸变化 约束效应 温度相关的杨氏模量 结果表明 ... 扩展阅读
本例使用频域模型计算同心共面布置中单匝初级线圈和二十匝次级线圈之间的互感和感应电流。其中对每一匝次级线圈都进行显式建模，并将结果与解析预测值进行比较。 扩展阅读
本例通过固体氧化物电解槽模拟水 (H2O) 和二氧化碳 (CO2) 的共电解过程。 模型涵盖了氢气 (H2) 和氧气 (O2) 在扩散电极中的质量平衡与气体流动之间的完全耦合、气体在气流通道中的动量平衡 ... 扩展阅读
本模型模拟了在 U 型结构表面沉积氧化铝薄膜的 ALD 沉积过程。该工艺采用三甲基铝 (TMA) 和水 (H2O) 作为气态前体，氮气作为吹扫气体。气态反应物依次被引入反应腔室，并在U型结构表面经历一系列吸附和化学反应 ... 扩展阅读
