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光声电泳是用来描述声场和光场之间相互作用的术语。在大多数情况下（包括这种情况），光场会使材料受热，从而影响声场。在这个声阱示例中，一组粒子在光源打开之前被捕获。受到光照后，光被粒子吸收，使周围的流体升温 ... 扩展阅读
化学机械抛光 (CMP) 是一种关键的表面平坦化工艺，广泛应用于半导体制造和光学器件加工领域。 本模型耦合分析了 CMP 设备在抛光过程中，保持环内部的流场及研磨颗粒的运动。其中，抛光头的转动使用了冻结转子方法。 扩展阅读
本模型描述了一种医疗领域中用于质子疗法的笔形束扫描 (PBS) 磁体系统，并对磁通密度和粒子轨迹进行仿真。 此类模型可用于 PBS 系统的设计，随着 MR 集成质子治疗技术的快速发展 ... 扩展阅读