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化学工业中用于非均相催化过程的最常见的反应器之一就是填充床反应器，这种类型的反应器用于合成以及废水处理和催化燃烧。 反应器实质上由填充有催化剂颗粒的容器组成，这些颗粒可以包含在管道或通道等支撑结构内 ... 扩展阅读

本例探讨多孔介质中电渗流的建模。该系统由烧结多孔材料隔室和产生电场的两个电极组成。电池结合了压力和电渗驱动流。 所求解的方程是流速和电流密度的连续性方程以及使用电动流动应用模式的质量平衡 ... 扩展阅读

化学气相沉积 (CVD) 是一种用于在基底表面生长薄膜的工艺。本例演示了一种机械加工刀具领域的 CVD 工艺，研究如何在金属刀片表面涂覆一层氮化钛 (TiN)，不仅能通过提高表面硬度 ... 扩展阅读

碳化硅 (SiC) 外延炉是专为生产和制备 SiC 外延片而设计的核心设备。本示例模型演示基于物理气相传输 (PVT) 法制备 SiC 外延片的过程。通过感应线圈加热 SiC 粉末，当温度达到特定值后，粉末开始升华 ... 扩展阅读

该案例介绍了如何使用“反应工程”接口中的“参数估计”和“实验”功能，来基于多个实验数据输入文件进行参数优化。 此 App 确定一级反应的阿累尼乌斯参数，其中氯化重氮苯在 313、319、323、328 和 333 K ... 扩展阅读

均质压燃 (HCCI) 发动机被认为是传统的火花点火发动机和压燃式发动机的替代产品。顾名思义， 均质燃料/氧化剂混合物经压缩而自动点燃，同时整个气缸体内发生燃烧。稀薄燃烧操作下的燃烧温度相对较低，因此 ... 扩展阅读

在用于聚酯纤维制造的聚合反应器中，混合是通过反应物之间的相互湍流喷射实现的，因此，湍流的流动直接影响聚合物链接的反应动力学和质量。 涉及快速反应动力学的湍流在聚合物生产中非常常见 ... 扩展阅读

化学气相沉积 (CVD) 是制造微芯片的重要步骤。其中一种常见的应用是低压下硅在晶片上的沉积，由于这个过程受到沉积动力学的限制，需要使用低压反应器获得气态物质的高扩散率，形成均匀的沉积厚度。 ... 扩展阅读

本教学案例将热方程和质量输运方程与层流相耦合，来模拟平行板反应器中的放热反应，其中举例说明了如何使用 COMSOL Multiphysics 中的预定义物理场接口系统地建立和求解越来越复杂的模型。 扩展阅读

本例演示“浓物质传递”接口中 Maxwell-Stefan 扩散模型的使用，模拟了一维 Stefan 管中的多组分气相扩散。该案例研究的是蒸发到空气中的丙酮和甲醇的液体混合物。 浓度分布是在稳态下建模的，并根据 ... 扩展阅读