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化学气相沉积 (CVD) 是半导体工业中常用的在晶片基板顶部生长高纯度固体材料层的工艺。 使用许多不同的技术在从大气压到超高真空 (UHV/CVD) 的压力范围内实现 CVD。 UHV/CVD 在低于 10-6 ... 扩展阅读
本例使用 SST 湍流模型（带和不带转捩模型）来计算 Eppler 387 翼型周围的流动，并将结果与实验值进行比较。 扩展阅读
液滴蒸发在日常生活中无处不在，在许多工业过程中也是必不可少的，例如喷墨打印、表面清洁或涂层，以及相变传热。 在本模型中，固体基板上的水滴蒸发到空气中。我们求解两相流与传热和水蒸气传递的耦合方程 ... 扩展阅读
本例演示含低渗透性晶体的多孔介质中的两相流。较重的相渗透到多孔介质中，因此只有当外部达到临界饱和度时，才会渗透到低渗透性晶体。 扩展阅读
本例演示如何模拟带部分挡板的湍流搅拌器中的湍流流动，展示了如何在“搅拌器模块”中使用“旋转机械，湍流”接口来设置自由表面和稳态自由表面特征。案例包含冻结转子和瞬态仿真，并对两者结果进行了对比分析。 扩展阅读
本例模拟汽车盘式制动器在制动及随后的释放过程中的瞬态发热和最终温度。对瞬态发热及随后的对流冷却进行建模非常重要，可确定一系列类似制动器接合之间的最小间隔。如果冷却不足，盘式制动器过热，会导致制动失灵。 ... 扩展阅读
流体阻尼器在军用设备中用于隔震，在土木结构中用于抑制地震引起的震动和风振，还有许多其他应用。流体阻尼器的工作动力是机械能耗散成热能。该模型演示流体阻尼器中的黏性加热现象和随之产生的温度上升 ... 扩展阅读
