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本例采用浅水方程来模拟水波对柱的冲击。闸门后面最初有一个 0.3 米高的水体。仿真开始时，闸门突然释放，水体形成向结构移动的波。在冲击结构后，水继续流动，直到在槽壁发生反射，并再次冲击柱，其中计算了柱上的压力 ... 扩展阅读
此模型将纳维-斯托克斯方程与传热方程相耦合，研究自由流体的密度驱动流。这里，流体位于带加热壁的方形空腔中，浮力是添加到纳维-斯托克斯方程的 Boussinesq 项，方程是无量纲化的 ... 扩展阅读
此模型利用 SST 湍流模型模拟不同攻角下斜 NACA 0012 翼型周围的流动。计算结果与实验得到的 Ladson 升力数据以及 Gregory 和 O'Reilly 压力数据非常一致。 扩展阅读
This example models a small reverse osmosis water desalination unit. The unit consists of a spirally wound ... 扩展阅读
本模型演示了两相薄膜流，相场 多物理场耦合功能的应用，可用于预测两种不混溶流体在狭窄薄流道中的界面演化过程。 本例描述一个自由边界润滑问题，其中润滑剂被挤压在两块平行板之间。板间隙中的润滑剂通过薄膜流 ... 扩展阅读
废水处理是去除污染物的多步骤过程，首先，通过沉淀、浮选和过滤除去较大的固体颗粒，第二步，通过生物处理使较小的颗粒聚集，形成所谓的絮状物，这些絮状物可通过沉淀等处理方法更容易地去除。 在圆形二沉池中 ... 扩展阅读
本模型模拟了一栋两层住宅，研究了污染物泄漏后在对流与扩散作用下的传播过程。住宅内空气的流动和循环受到通风口位置的影响，且每个通风口的流速也可能存在差异。此外，污染物还可能通过暖通空调 (HVAC) 系统传播 ... 扩展阅读
化学机械抛光 (CMP) 是一种关键的表面平坦化工艺，广泛应用于半导体制造和光学器件加工领域。 本模型耦合分析了 CMP 设备在抛光过程中，保持环内部的流场及研磨颗粒的运动。其中，抛光头的转动使用了冻结转子方法。 扩展阅读
本基准模型用于模拟固体球体与弹性壁之间由润滑油膜隔开的非共形接触问题，重点研究在挤压油膜效应下，润滑承载过程中瞬态压力分布与油膜厚度的变化情况。 这是一个球体与壁面之间的流体动力学相互作用的基准案例 ... 扩展阅读
