硅晶片激光加热

Application ID: 13835


通过沿圆轨迹发射激光对工作台上自转的硅晶片加热。将激光入射热通量作为晶片表面分布的热源来处理,得到了晶片的瞬态热响应。计算了加热过程中温度的峰值、平均值和最小值,以及晶片中的温度分布。

案例中展示的此类问题通常可通过以下产品建模:

COMSOL Multiphysics®