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该基准模型计算一维液体动压止推轴承的承载能力,将在这个简单示例中直接求解雷诺方程得出的计算结果与解析式进行了比较。 扩展阅读
化学机械抛光 (CMP) 是一种关键的表面平坦化工艺,广泛应用于半导体制造和光学器件加工领域。 本模型耦合分析了 CMP 设备在抛光过程中,保持环内部的流场及研磨颗粒的运动。其中,抛光头的转动使用了冻结转子方法。 扩展阅读
您可以使用装配网格划分来减少模型中的网格单元数,这对于可以使用扫掠网格处理流体域的情况下的共轭传热仿真特别有用。 本例中的模型演示了在模拟错流式换热器时如何使用“形成装配”和不连续网格。 有关此模型的更详细描述 ... 扩展阅读
在设计用于通过 BiPAP 和 CPAP 向患者提供呼吸支持的氧气面罩时,多物理场仿真至关重要,有助于将给定设计中面罩内部的流型可视化。通过仿真,可以计算面罩中的氧气消耗量、二氧化碳积累量和温度变化 ... 扩展阅读
This model of a two-story house can be used to examine a contaminant leak and the subsequent contaminant ... 扩展阅读
This model demonstrates the use of the Two-Phase Thin-Film Flow, Phase Field multiphysics coupling, which can ... 扩展阅读