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在半导体制造过程中,光刻胶涂覆是一项关键的工艺,需要精确控制光刻胶层的厚度。通常,通过旋涂来减小光刻胶层的厚度,其基本原理是利用离心力将晶圆表面多余的光刻胶甩出,通过调整材料属性和旋转速度等参数 ... 扩展阅读
化学机械抛光 (CMP) 是一种关键的表面平坦化工艺,广泛应用于半导体制造和光学器件加工领域。 本模型耦合分析了 CMP 设备在抛光过程中,保持环内部的流场及研磨颗粒的运动。其中,抛光头的转动使用了冻结转子方法。 扩展阅读
螺旋桨作为船舶的核心推进装置,其性能直接影响船舶的航行效率。本模型采用冻结转子法和 RANS 湍流模型,对 KP505 螺旋桨[1]的敞水性能进行研究。其中计算了螺旋桨在不同进速系数下的推力系数、扭矩系数和敞水效率 ... 扩展阅读
本例演示一个用于人工地层冻结的热-水-力 (THM) 模型,通过耦合传热、地下水流和土力学,精确捕捉隧道开挖过程中冰层的形成演化、孔隙压力变化以及地层的变形特征。其中采用表观热容法来模拟冻结过程,将达西定律与传热相耦合 ... 扩展阅读
此模型研究电渗流 (EOF) 中电中性物质带在弯曲微通道中的弥散,使用“优化模块”进行几何优化,将弯曲引起的弥散降至最低程度,核心理念是通过贝塞尔曲线对几何结构进行参数化表示,并在“优化 ... 扩展阅读
