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电容耦合等离子体分析

Luke T. Gritter, Sergei Yushanov, Jeffrey S. Crompton, and Kyle C. Koppenhoefer
AltaSim Technologies
Columbus, OH

AltaSim Technologies 主要提供工程咨询服务,其中包括先进的多物理场建模,如电容耦合等离子体(CCP)。等离子体蚀刻和薄膜沉积,这是先进微电子器件制造过程中的关键工艺,通常采用 CCP,其中的等离子体通过两个或多个电极之间的振荡电场触发和维持。CCP 的分析非常困难,因为要达到周期性稳态,等离子体的动力性能和大量 RF 周期是必需的。通过使用 COMSOL Multiphysics 在麦克斯韦和非麦克斯韦案情况下的轴对称 CCP 反应器中进行低频 RF 放电的一维和二维仿真,AltaSim Technologies 开发了可用于协助 CCP 加工技术的仿真模型。