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直拉法(Czochralski,CZ)是制备单晶硅的核心工艺之一。通过精准调控加热功率、拉速和晶体旋转速率,能够有效控制晶体的形状,尤其是其直径。 本模型演示了直拉法晶体生长炉的热分析过程。系统采用电加热器进行加热 ... 扩展阅读
化学机械抛光 (CMP) 是一种关键的表面平坦化工艺,广泛应用于半导体制造和光学器件加工领域。 本模型耦合分析了 CMP 设备在抛光过程中,保持环内部的流场及研磨颗粒的运动。其中,抛光头的转动使用了冻结转子方法。 扩展阅读
可倾瓦推力轴承常常用于高推力负荷的旋转机械。推力载荷通过流体动压油膜从滑动零件传递到静止零件,可倾瓦推力轴承由一系列在固定倾斜垫上滑动的平面组成。平坦表面与倾斜垫之间的空间由润滑油填充 ... 扩展阅读
本研究设置旨在揭示通道中湍流的特性如何因相邻多孔区域的存在而发生改变。通过仿真,我们观察到固体壁和流体-多孔界面处的非对称速度分布、较高的湍流水平和较大的摩擦系数。在高渗透率的情况下,无需专门使用校准的经验函数 ... 扩展阅读
轴颈轴承由内部旋转轴颈(轴)及其周围的外部圆柱(轴承)组成,润滑油将两者隔开。在某些工作条件下,轴承与轴颈之间会出现空穴现象,导致部件损坏和故障。了解空穴速率有助于确定最大施加载荷。 ... 扩展阅读
此模型演示如何计算切向背景流场中声学衬垫的声学属性。衬垫由八个带狭缝的谐振器组成,背景切线流的马赫数为 0.3。模型计算衬垫上方的声压级,并将计算结果与已发表的研究论文中的结果进行比较。 模型首先利用“CFD 模块 ... 扩展阅读
本例演示如何从 STL 文件导入表面网格并对其进行修复,以及如何创建网格以模拟鼻喷剂在人体上呼吸道中的应用过程。此外,本例还进一步演示了如何将修复后的网格与鼻喷剂的几何形状相结合 ... 扩展阅读
