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本研究设置旨在揭示通道中湍流的特性如何因相邻多孔区域的存在而发生改变。通过仿真,我们观察到固体壁和流体-多孔界面处的非对称速度分布、较高的湍流水平和较大的摩擦系数。在高渗透率的情况下,无需专门使用校准的经验函数 ... 扩展阅读
本例研究一个由压电换能器驱动的玻璃毛细管中的声阱的三维模型。该系统通过压电换能器上的振荡电势驱动,在固体内诱发机械振动,并在流体中形成声压场。模型中还对压电换能器产生的热量进行了分析 ... 扩展阅读
化学机械抛光 (CMP) 是一种关键的表面平坦化工艺,广泛应用于半导体制造和光学器件加工领域。 本模型耦合分析了 CMP 设备在抛光过程中,保持环内部的流场及研磨颗粒的运动。其中,抛光头的转动使用了冻结转子方法。 扩展阅读
科里奥利流量计,也称为质量流量计或惯性流量计,通常用于测量流经此流量计的流体质量流量。其工作原理是当流体流经震荡的软管时,其扭曲程度与流体流量成正比。通常来说,此流量计还可用于测量密度及基于密度的体积流量。 ... 扩展阅读
在半导体制造过程中,光刻胶涂覆是一项关键的工艺,需要精确控制光刻胶层的厚度。通常,通过旋涂来减小光刻胶层的厚度,其基本原理是利用离心力将晶圆表面多余的光刻胶甩出,通过调整材料属性和旋转速度等参数 ... 扩展阅读
