砷化镓化学气相沉积

Application ID: 945


化学气相沉积 (CVD) 支持薄膜通过吸附在表面并发生反应的分子和分子碎片在基底上生成。本例演示这种 CVD 反应器的建模,其中三乙基镓首先分解,反应产物与砷化氢 (AsH3) 一起吸附在基底并发生反应,生成砷化镓层。

CVD 系统通过动量平衡、能量平衡和质量平衡来建模,模型详细描述了气相动力学和吸附动力学,并将还原反应方案与“反应工程”接口中的完整方案进行了比较。

模型强调了“反应工程”和“化学”接口以及“可逆反应组”特征在模拟零维和空间相关反应器中的反应/传递系统时的易用性。 在“反应工程”接口中,您可以轻松研究完全混合系统中不同反应组的瞬态特性。“化学”接口收集反应动力学,并计算传递参数和热参数,这些参数可以与其他接口无缝耦合。

在此 App 中,您还可以使用“可逆反应组”特征导入 CHEMKIN,以及组织管理 CVD 过程中涉及的本体反应和表面反应构成的复杂系统。该空间相关模型利用“稀物质传递”、“流体传热”和“层流”接口分析 CVD 反应器中的质量传递、传热和流体流动。

案例中展示的此类问题通常可通过以下产品建模:

化学反应工程模块